达索系统 SEMI UNIV+RSE 赋能半导体创新与制造升级|SEMICON China 2026

来源:达索系统 #达索系统#
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我们诚挚邀请您莅临2026 SEMICON® China展会,并参观达索系统的展位。

SEMICON China是全球半导体行业最具影响力的盛会之一,汇聚了全球领先的企业、专家和创新技术,聚焦半导体制造、设计、封装测试以及材料设备等全产业链的最新发展趋势。

作为工业软件解决方案提供商,达索系统将在本次展会上展示我们在半导体领域的SEMI UNIV+RSE创新技术和解决方案。

半导体行业一直在持续进行巨大的变革,我们的价值主张是:

  • 减少缺陷:通过虚拟仿真和预测分析及早发现和避免缺陷,确保更高的产量和良率的不断提升;

  • 降低成本:优化资源利用率,减少物理试制,最大限度地减少返工,降低整体生产成本;

  • 加快上市时间:通过并行化的设计和验证流程,以及实时协同,加快流程执行,加速产品开发和发布;

  • 竞争优势:更高的效率、更低的成本和更快的创新周期,使企业开发更高质量、更尖端的产品,快速适应市场需求,构建差异化能力。

达索系统 SEMI UNIV+RSE 使半导体企业能够持续共同创造、验证和优化创新——将运营洞察转化为推动速度、精度和长期竞争优势的专有资产。

贯穿全价值链的智能虚拟孪生

提供高还原性的半导体目标对象数字副本。

从实验室到晶圆厂的沉浸式体验

通过多尺度、基于物理的可视化,解锁新洞见。

AI增强的研发与制造

将机器学习应用于模拟数据,以揭示多参数权衡。

实时、多学科的指导

统一设计、工艺、设备和封装专业知识。

IP生成与管理

在产品代际间创建、重用和淘汰IP。

与生态系统伙伴的联合创新

通过共享智能空间实现安全、协作的学习。

知识管理与集体智能

捕获并民主化企业知识和KNOW-HOW。

针对半导体设备制造企业,我们的 SEMIEQUIP UNIV+RSE 可以帮助企业识别关键挑战、加速创新、提升质量并确保业务连续性。

结构设计的演进: 多专业协同设计平台

专为工程师打造的工程设计环境,即设备整机多专业多组织协同设计环境。从机械设计,到电气管路原理及3D布置的工程设计一体化平台。

系统工程的演进:基于模型的需求工程

由需求牵引的设备开发研制,从原始需求的分解,到需求的反馈及验证,最终完成需求的追溯闭环。

设计分析的演进:无实物“虚拟验证”

在构建物理原型之前,通过人工智能和仿真技术寻求最优解决方案,通过数据驱动的过程来确定设计参数。如生成设计,装配尺寸优化,系统仿真分析,多物理场分析等。

用户体验的演进:升级为虚拟体验

可预先验证设备在虚拟环境中的运控行为,操作易用性、可维护性和安全性,从而提升用户体验并提高客户满意度。

我们期待与您在展会现场相聚,共同探索 SEMI UNIV+RSE 的无穷奥秘!如需预约会议或了解更多信息,请随时与我们联系。

展会信息
  • 展会名称:SEMICON China 2026

  • 时间:2026年3月25日 - 27日

  • 地点:上海新国际博览中心

  • 达索系统展位号:T4216

责编: 爱集微
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