奕斯伟材料“硅片固定装置和硅片刻蚀设备”专利获授权

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天眼查显示,西安奕斯伟材料科技股份有限公司近日取得一项名为“硅片固定装置和硅片刻蚀设备”的专利,授权公告号为CN119673859B,授权公告日为2025年10月17日,申请日为2024年12月6日。


本发明提供了一种硅片固定装置和硅片刻蚀设备,涉及半导体技术领域,硅片固定装置,包括:下承载台和上抵压台,硅片设置于下承载台朝向上抵压台的一面上;上抵压台上设置有多个抵压盘,每一抵压盘形成为内部中空的圆柱状结构,不同的抵压盘的直径不同,每一抵压盘能够在竖直方向上上升或下降;控制器,用于获取硅片的尺寸和硅片上待刻蚀的边缘区域的目标尺寸,根据目标尺寸和硅片的尺寸,控制多个抵压盘中的第一抵压盘下降抵压硅片的第一表面,以使第一表面暴露出目标尺寸的边缘区域。本发明可以匹配不同尺寸的硅片和不同尺寸的待刻蚀的边缘区域,通过一个硅片固定装置,即可以满足不同尺寸的硅片和不同尺寸的边缘区域的刻蚀需求。

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