天眼查显示，京东方科技集团股份有限公司“阵列基板的制备方法、阵列基板和显示装置”专利公布，申请公布日为2024年9月24日，申请公布号为CN118692988A。
本申请提供了一种阵列基板的制备方法、阵列基板和显示装置，其中阵列基板的制备方法，包括：提供衬底基板；在衬底基板的多个像素内形成薄膜晶体管；在薄膜晶体管上方依次形成钝化层和有机膜层；在有机膜层中形成第一开口区，第一开口区覆盖像素的开口区域，以及像素的驱动区域中的第一区域，第一区域在衬底基板上的投影与漏极在衬底基板上的投影至少部分重叠；在第一区域的钝化层中形成贯穿的第一过孔，第一过孔暴露出薄膜晶体管的漏极；在第一开口区形成像素电极，像素电极通过第一过孔与薄膜晶体管的漏极电连接。本申请提供的技术方案，能够提高阵列基板的良率，以及显示装置的可靠性。
