创芯突破,智造未来!东方晶源精彩亮相第二届IDAS峰会

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为进一步凝聚EDA产业力量,加速EDA技术突破和产业推广,推动产业生态多元化发展,第二届设计自动化产业峰会IDAS 2024(Intelligent Design Automation Summit 2024)于2024年9月23日-24日在上海·张江科学会堂隆重举行。作为本次大会铂金赞助企业、EDA²理事长单位,东方晶源精彩亮相,与众多行业领袖齐聚一堂,开展深度交流与思想碰撞,共同探讨产业发展之路,为电子设计自动化领域的发展擘画新的篇章。

EDA²会员大会

9月22日,EDA开放创新合作机制(简称“EDA²”)2024年度会员大会在上海·张江科学会堂隆重举行。东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司董事长、首席技术官俞宗强博士出席会员大会。在颁奖环节,俞宗强博士与EDA²物理实现分委会副主任、产教融合工作组副组长黄宇博士为ISEDA Best Paper奖项获得者颁奖。

在会员大会的晚宴中,俞董发表致辞。俞董表示:东方晶源始终致力于解决集成电路制造中最为关键的良率管理问题,将继续以客户需求为中心,进行技术突破和产品创新,向着成为集成电路领域良率管理领导者的目标不断迈进。同时,感谢EDA²为我们提供了一个交流合作的桥梁,让我们有机会结识到许多志同道合的伙伴。未来,东方晶源将继续全力支持EDA²的各项工作,携手各会员单位,共同应对挑战,推动技术革新。

展台展示

在东方晶源展台,旗下计算光刻平台PanGen®、良率管理平台YieldBook等产品吸引了众多参观者驻足,特别是近期PanGen DMC®、PanGen ILT®革新等成果成为大家关注和讨论的焦点,展台工作人员就更多技术细节与大家积极交流、深度沟通。

专题演讲

在晶圆制造论坛,东方晶源技术专家带来题为《AI快速光刻反馈引擎——版图光刻效果立等可现 敏捷反馈助力实现DTCO》的报告。为解决芯片制造的复杂度以及芯片设计在反馈时间长、成本高等方面的挑战,东方晶源打造出D2C(Design To Contour)快速光刻反馈引擎,为从制造到设计提供快速反馈。

目前D2C快速光刻反馈引擎已成功搭载到PanGen DMC®平台上,成为该平台最为核心的模块,助力PanGen DMC®可基于原始Design快速、精准估计该Design最终硅片上的形貌(Contour),进而提前预知设计版图存在的潜在风险。值得一提的是,在国内某先进节点FAB内实测结果表明,东方晶源PanGen DMC®在全芯片尺度上预测结果与实际的差距在超过99%的版图位置上小于1nm。

未来,东方晶源将继续深化在计算光刻、良率管理等制造类EDA领域的发展,以更加创新、前瞻的技术方案解决更多客户痛点,为产业发展不断赋能。

责编: 爱集微
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