1月27日，宁波冠石半导体光掩模版项目顺利封顶。该项目位于宁波前湾新区，于2023年5月16日签约，同年10月1日开工，仅历时8个月完成封顶。
据悉，项目总投资约20亿元，先期投资16亿元，拟用地约68.8亩，建设周期计划为60个月，主要生产45-28nm成熟制程的半导体光掩膜版。
资料显示，宁波冠石半导体公司是一家专业从事半导体光掩模版制造的企业，企业主要从事45-28nm半导体光掩模版的规模化生产。
光掩模版是微电子制造中光刻工艺所使用的图形转移工具或母版，其功能类似于相机的“底片”。由于显示行业厂商在生产显示面板过程中需要大量使用显示面板驱动（Display Driver IC，简称“DDIC”），而半导体光掩膜版系生产DDIC前端工序的关键材料之一。冠石科技表示，本次拟投资项目在建成达产后将与公司现有业务在客户端具备一定的协同效应，能够满足现有客户的潜在需求。
此前在2023年5月份，冠石科技表示已经与宁波前湾新区管理委员会签订协议，约定项目将落地宁波前湾新区。宁波前湾新区管委会承诺，将积极配合冠石科技申报省、市重点项目，积极支持冠石科技争取国家、省、市级相关政策。（校对/赵月）
