苏大维格回应:公司对外销售光刻机主要为激光直写光刻机

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针对光刻机实现突破的问题,苏大维格于9月15日在互动平台进行回应。其称,在大类上,光刻机主要有两种类型。第一类是掩摸光刻机,如ASLM的EUV设备,好比“复印机”,把掩摸上的图形投射到硅片上,可用于各类芯片的批量生产,这类光刻机技术工艺和材料难度极高;第二类是无掩摸光刻机,也称直写光刻机,包括激光直写光刻机和电子束光刻机等,用于直接将数据转变成相关图形,好比“打印机”,可用于芯片/液晶掩摸、光模具及其他微结构的制备。

其进一步称,公司长期从事光刻机的研制,光刻机实现了从自用到销售给国内外科研院所,再到销售给相关企业的发展路径。目前,公司对外销售的光刻机主要为激光直写光刻机,其中在科研教育领域具有一定的知名度和市场占有率,在其他行业和领域已实现的销售金额相对较小,部分应用领域离国际先进水平具有一定差距,需要持续的研发投入;纳米压印光刻领域,公司设备主要为自用,对外销售金额与直写光刻机相比较小;此外,公司也开发了投影扫描的光刻设备,拟应用于光伏电镀铜图形化领域,目前尚未实现销售。

虽然苏大维格迅速做进一步解释,但苏大维格还是收到深交所关注函。监管要求苏大维格结合不同类型光刻设备的技术路线的差异,补充披露所生产光刻设备的具体类型、主要客户及下游用途等情况,并核实说明其光刻设备是否能够直接用于芯片研发及制造、主要技术参数是否与业内龙头厂商存在较大差等。

此外,监管要求苏大维格详细说明纳米压印技术的具体用途、研发情况,以及在集成电路领域的布局情况险。按照要求,苏大维格需在2023年9月22日前回复关注函。

责编: 邓文标
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