近日，上海精测半导体光学关键尺寸（OCD）测量设备EPROFILE 300FD再度通过关键客户28nm工艺验证，顺利进入量产生产线并全面投入使用，获得多家客户认可。
图源：上海精测半导体
据悉，光学关键尺寸（OCD）测量设备是半导体先进制程所必需的关键设备，此类设备面临技术开发难度大、产品应用建模复杂度高以及工艺验证周期长等诸多挑战。
上海精测半导体官方消息显示，自2018年成立以来，依托子公司颐光科技在此领域近十年的技术积累，上海精测半导体聚集产业界各路技术专家，相继完成了包括设备硬件系统、软件算法、稳定性动态补偿、在线matching校准、工艺应用等在内的多项高难度技术攻关，开发出了国内独有、具备完全自主知识产权的光学关键尺寸（OCD）测量设备，且该测量设备的核心部件-RCRC全穆勒椭偏光谱测头、高稳定性整机平台及工业级电磁场仿真平台软件均实现自主国产化。（校对/诺离）
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