近期中美科技战再升温，全球唯一制造最复杂芯片所需光刻设备的荷兰公司成为此次事件的关键焦点。据报道，美国政府正准备强迫荷兰政府，禁止向中国销售几乎所有的芯片制造设备，包括深紫外光（DUV）光刻机。
报道指出，美方此举目的在阻碍中国在人工智能（AI）、超级计算机及军事技术的发展。在此之前，荷兰政府在美国施压下，已禁止对中国出口最先进的极紫外光（EUV）光刻设备，这使得荷兰光刻机公司自2019年起未向中国出货过任何EUV设备，并限制部分先进DUV光刻机的销售。
然而，美国国会正审议跨党派的《硬件技术管制多边协调法案》（MATCH Act），试图将施压转化为直接胁迫，强制盟国与美国出口管制同步。一旦通过，荷兰公司不仅无法再向中国销售DUV光刻机设备，甚至连已交付设备的维护与保养也将被禁止。若荷兰拒绝执行，美国将对其实施制裁。由于荷兰光刻机公司高度依赖美国供应链，美方曾威胁中断供应，这成为迫使荷兰政府妥协的关键。
然而，荷兰官员正于华盛顿激烈游说试图废除该条款，但因法案获得美国民主与共和两党支持，且将并入几乎必定通过的国防预算案，挽回机会十分渺茫。讽刺的是，该法案对美国本土企业存有宽限空间。在最终版《MATCH法案》中，限制美企向中国销售先进蚀刻机的广泛禁令已被删除，但DUV禁令却依然保留，显现出政策上的双重标准。
分析指出，若美方禁令未立即实施，对中国未来的DUV装机影响有限。但若禁令迅速落实，短期内仍将造成不小的过渡挑战。这场围绕光刻技术的拉锯战，将决定未来全球半导体产业链的全新版图。
