英特尔和日本国家研究机构将在日本建立一个尖端半导体制造技术研发中心，以促进该国芯片制造设备和材料行业的发展，而日本在这些领域具有优势。
该研发中心将在三到五年内建成，将配备极紫外（EUV）光刻设备。设备和材料制造商将支付费用以使用该设施进行原型设计和测试。这将是日本第一个行业成员能够共同使用EUV设备的中心。
日本经济产业省下属的国家先进工业科学和技术研究所（AIST）将负责运营该设施，而英特尔将提供使用EUV技术制造芯片的专业技能。该中心的总投资预计将达到数亿美元。
EUV是5nm及以下半导体制造的一项必不可少的技术。纳米级越小，芯片上可以塞入的晶体管就越多，从而提高计算能力。EUV设备每台成本超过400亿日元（2.73亿美元），材料和设备供应商很难独自进行这项投资。
这些公司目前使用比利时Imec等海外研究机构的EUV设备来开发他们的产品。在日本，旨在大规模生产尖端半导体的Rapidus计划于12月引入EUV设备进行制造，但日本的研究机构迄今为止还没有这样的设备。
随着中美竞争的加剧，美国加强了对华EUV相关设备、材料等出口管制。这使得将国外研究机构的研究数据带回日本的过程变得更加耗时，因为美国会对其进行检查。如果日本国内研究机构拥有EUV设备，这些障碍就会减少。
荷兰ASML在EUV光刻设备制造领域占据主导地位。但是，芯片生产需要600多道工序，相关设备和材料的开发必不可少。
在日本企业中，Lasertec在EUV相关检查设备市场占有100%的份额，而JSR等光刻胶公司在用于制造电路的感光材料方面则占有优势。英特尔希望通过新的研究中心加深与这些材料和设备供应商的关系。（校对/张杰）
