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据韩国贸易统计促进院数据显示，韩国5月份用于芯片生产的空白掩模出口额较去年同期增长46%，达到256万美元，其中中国市场为193万美元，占总额的75.3%。
空白掩模用于制造在光刻过程中用于在晶圆上绘制电路图案的光掩模。它们类似于胶片相机中的胶片。
光掩模安装在光刻机上，经过光掩模发射到晶圆上的光线就是电路图案。
空白掩模出口的增加源于中国芯片公司（从无晶圆厂到代工厂）数量的增加。
消息人士称，由于需求旺盛，中国代工厂的开工率与韩国同行不同。中国代工厂主要使用成熟节点，而韩国空白掩模被广泛用于这些工艺节点。
根据新韩投资证券的报告，从2023年开始出现光掩模短缺，目前仍在持续。（校对/刘昕炜）
