英特尔完成首台商用高数值孔径 EUV 光刻机组装

来源:经济日报 #英特尔#
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半导体巨人英特尔于18日宣布,在其俄勒冈州的研发中心,完成业界首台商用高数值孔径极紫外光(High-NA EUV)光刻机的组装。

半导体设备商阿斯麦(ASML)于去年底在社群平台X贴出图片,显示开始将第一套高数值孔径EUV系统的主要部分出货给英特尔。如今英特尔宣布已完成组装,展现领先竞争对手的用意明显。

在4年发展5个制程节点计划,预计最先进可达Intel 18A制程之后,英特尔规划未来将在其Intel 14A制程正式导入利用高数值孔径EUV。先前根据分析师预估,这套高数值孔径EUV设备的价格约达2.5亿欧元。

英特尔于日前透露,将在2027年前开发出14A制程,以及Intel 14A-E制程。

英特尔强调,高数值孔径EUV设备TWINSCAN EXE:5000现正进行校准,这套设备结合该公司晶圆厂内的其他技术,有望能制印出比现有EUV设备小1.7倍的特征。

同时,英特尔提到,后续该公司也已计划购置下一代TWINSCAN EXE:5200B系统。

责编: 爱集微
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