ASML财报解读 | 中国市场的半边天与CEO的荣休

来源:爱集微 #ASML# #成熟制程# #中国市场#
3.7w

(文/武守哲)4月17日,荷兰光刻机巨头ASML披露2024年一季报,实现净销售额53亿欧元(约合人民币408亿元),同比下滑21%,环比下滑27%;净利润为12亿欧元,同比降40%,环比下滑幅度也高达40%;毛利率为51.0%,同比提升0.4个百分点,环比下滑0.4个百分点。

在公开发布的财务数据和简报之外,长达一小时的财报电话会议丰富了一连串数字背后的更多讯息。

这一季度,ASML发货了12个EUV光刻系统,并从11个设备中记录了18亿欧元的收入。

ASML本季度末的自由现金流为负,这主要是由于与上季度相比首付客户减少和库存增加所致。

库存问题主要是价值含量高的先进光刻设备的蓄势待放量。

本季度,ASML净光刻系统预订量由59%的内存商和41%的逻辑代工厂所推动,由此可以看到,AI大算力芯片对存储类公司推动着设备需求的景气度很旺。

值得一提的是,4月24日ASML股东大会将是目前公司CEO Peter Wennink最后一个工作日,他向大家提前道别。在过去的十年里,Peter Wennink以CEO的身份陪伴ASML走过了40多个财季,并且在过去的25年里为公司服役超过100个财季,见证了ASML的业务的持续攀升和各种高光。在电话会议上,ASML同事和连线接入的分析师纷纷对Peter Wennink表示敬意和感谢。

驳斥中国成熟制程产能过剩论

财报显示,本财季ASML来自中国大陆净系统销售营收为19亿欧元,而上季度为22亿欧元。该季度ASML来自中国大陆的净系统销售营收占比高达49%。

对此,公司首席财务官Roger Dassen阐述:“这个数字环比有所下降,但仍然在绝对值和相对值上保持了很强劲的势头。一般来说每年Q1的设备销量和出货量相对较低,这并不奇怪。”针对 TD Cowen分析师Krish Sankar所提问的中国大陆销量是否占比过高的问题,Roger Dassen认为,销量和订单量是两个不同的观察维度,一个是显性的,一个是隐性的,公司不会披露订单量的地理分布,但从新增、库存订单量等角度看,要比ASML的光刻设备销量要更分散的多。他还透露,目前ASML订单的积压量,中国大陆的占比约为20%。

此外,Krish Sankar还问到了美国出口管制对中国市场的影响度这一问题,ASML去年给出的回答是10%到15%之间,那么这个财务指引目前有没有变化?Roger Dassen对此表示,10%-15%这一判断没有改变,美国新规主要还是影响浸润式光刻设备的在华销售。

Berenberg的Tammy Qiu问到了目前设备市场的一个热点话题,目前美国联合盟友国家对中国所谓的成熟制程“产能过剩”问题进行审查,这会对ASML的在华业务造成什么影响?

Roger Dassen有力的驳斥了中国“成熟制程产能过剩论”。他指出,全球各国的产能都在提升,正如我们在2022年投资者日所分享的,从2022年到2030年间,每年都会新增38万片左右的成熟制程晶圆的需求量,如果将2023年全球生产的成熟制程晶圆数量相加,结果其实是低于这个数字的,何来中国产能过剩之说?他还强调:“在未来,与其他国家相比,中国的自给自足能力将会比现在更高,这与对成熟技术的需求持续强劲有关。中国今天新增的成熟产能是理性且符合预期的,即增加哪些成熟工艺产能才能满足世界需求的预期。”

近几个月以来,业界传出美国施压ASML中止对华光刻设备维护服务,给设备产业链的健康度蒙上了一层阴影。针对Goldman Sachs分析师Alexander Duval的这一问询,公司CEO Wennink做了专门回答,他指出:“两国政府之间已经进行了讨论......各国政府围绕这一问题的讨论方向是国家安全问题。目前ASML在华已装机的设备的维护服务上未受阻碍。”

ASML的过渡年

ASML这份财报看上去数据好像并不太乐观,但并没有引发半导体行业的过度担忧,资本市场也相对反应平淡。其中一个重要原因是,从去年下半年开始,ASML高层就把2024年定调为过渡年,为“2025年玩大的”做蓄势准备。

过去六个月,ASML的销售额为130亿欧元,即每季度平均65亿欧元,依然亮眼。分析机构RadioFreeMobile总裁Richard Windsor在集微网邮件采访中也提到,2025年将会是ASML的大年,这主要是由于先进代工厂已经做出了巨额承诺,如英特尔、三星、台积电和美光等将会下单利润率更高的EUV设备。

向上迈进,高NA设备的持续放量

在财报电话会议上,公司CFO还提到了高孔径EUV的财务贡献度。他指出,ASML计划在2024年EUV 0.33 NA光刻设备上的发货量和2023年保持持平,并且在交付了第一台NXE:3800E,以供客户鉴定审核和导入。NXE:3800E生产率达到每小时曝光220片晶圆,可以比最终配置的NXE:3600D提高37%(如下图)。

今年2月份,英特尔技术开发总经理Ann Kelleher在加利福尼亚州圣何塞举行的SPIE光刻会议上,表示ASML已向英特尔交付的最先进High NA EUV光刻机Twinscan EXE:5000的主要部件已经启动,该设备将提供0.55数值孔径的投影光学器件,单次曝光分辨率可低至8nm,比单次曝光13.5nm分辨率的典型Low-NA EUV的分辨率更高。目前第一套High-NA EUV系统安装在在ASML荷兰Veldhoven实验室,第二套系统则正在英特尔的俄勒冈州晶圆厂组装。

可以说,0.55数值孔径光刻设备让ASML和英特尔绑定在一起,后者将成为全新一代光刻设备的最大客户。

责编: 张轶群
来源:爱集微 #ASML# #成熟制程# #中国市场#
THE END

*此内容为集微网原创,著作权归集微网所有,爱集微,爱原创

武守哲

微信:a15082205500

邮箱:wusz@ijiwei.com


1217文章总数
449.5w总浏览量
最新资讯
关闭
加载

PDF 加载中...