11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行，一系列重磅科技集中亮相。会上，上海微电子装备集团（简称“SMEE”）携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）亮相中国馆，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。
此次展出的模型采用透明剖视设计，直观呈现整机光学光路与内部机电系统的链路布局。对光刻机这类高度复杂的装备而言，剖视模型的意义在于让外界得以一窥内部结构——光如何走、机电系统如何协同，一目了然。
SMEE介绍，该平台为国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类主流技术路线。整机核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统均实现全链条自主可控，具备稳定的工艺适配能力与产线运行可靠性。换句话说，从光学到机电、从传输到对准，关键环节均掌握在自己手中。
性能是检验装备成色的硬指标。据悉，目前国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度、生产效率紧密追赶国际标杆。
在售的SSC800系列KrF与SSB800系列I-line机型，基于自研双工件台平台，均搭载国产自主大NA物镜，关键曝光成像指标对标国际标杆，其中SSC800整体性能跻身行业第一梯队。这意味着国产干式光刻机已不只是“能用”，而是在核心指标上站到了与国际领先产品同台比较的位置。
自主可控不止体现在设计层面，更体现在制造与验证环节。基于全栈自主可控技术底座，关键零部件国产化率突破90%，已实现定型与规模化量产，填补国内空白。
更具说服力的是产线数据：多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超92%。量产线的长期稳定运行与有效运行率，是衡量设备可靠性的直接证据——实验室指标再漂亮，也要经得起产线日夜运转的检验。
SMEE成立于2002年，是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商，也是我国前道光刻装备自主供给体系的核心支撑主体，业务覆盖核心光刻装备的设计研发、生产制造、市场销售与全流程技术服务。
公司表示，始终锚定产业技术前沿，坚持自主创新深耕与产业链协同联动并行，与上下游供应链、行业伙伴深度协作，携手构建开放良性的半导体产业生态，在实现自身稳健运营的同时，持续为我国半导体产业高质量升级提供核心装备支撑。
从进博会中国馆的剖视模型，到量产线上超千万片的流片记录，SMEE此次展示的不只是一台设备，而是一条从技术研发到规模交付的完整链条。国产前道光刻装备的自主化进程，正从“填补空白”走向“稳定供给”。
