本文主要探讨了光频梳在半导体领域的应用前景以及实现超连续谱的技术挑战。光频梳是一种利用光子波导在薄膜上形成图案的设备，广泛应用于光传感器、光谱分析等领域。近年来，随着光频率梳技术的不断进步，其应用领域正在逐步扩大，包括但不限于全可见光和紫外波段。 光频梳能够提供稳定的全可见光和紫外波段光频梳覆盖，并且可以跨多个波段进行应用。但当前的光频梳技术仍然面临着一些挑战，如全可见光和紫外波段光频梳的覆盖范围扩展至全光学波段的需求，以及在集成平台上实现稳定的该波段光频梳覆盖的挑战。因此，如何在结构简易的纳米光子波导中实现全可见光及紫外波段超连续谱产生，同时放宽制备容差、降低制造成本，仍然是亟待解决的关键问题。 澄雅之芯团队的研究人员最近成功地开发了一种基于光刻辅助化学机械刻蚀（PLACE）工艺制备掺氧化镁（MgO）薄膜 bèl酸锂脊形波导，这是一项重要的科研成果。该研究通过光刻辅助化学机械刻蚀，成功地在1550 nm 锁模激光泵浦下，实现了覆盖 2.7 个倍频程（330~2250 nm）的宽带超连续谱产生。 这项工作的实施为实现超连续谱的发展提供了新的可能，同时也为新型集成光频梳光源的研发打下了坚实的基础。通过进一步的研究和探索，我们有望在其他领域实现类似的技术突破。