“硅启未来之光”,沪硅产业李炜纵论硅光子产业新图景  

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9月21日,2026年国际RF-SOI论坛在沪举行。上海硅产业集团股份有限公司常务副总裁李炜发表题为《硅启未来之光》的主旨演讲,围绕市场需求与硅光子价值链、NSIG的SOI部署、NSIG综合硅材料平台等,分享SOI产业的最新趋势与企业战略布局。

AI算力狂奔,硅光站上风口

李炜援引Dell'Oro 2026年8月最新预测:到2030年,全球数据中心资本支出将突破3万亿美元。这一长期预测在本月被大幅上调一倍,背后是AI投资对GPU、服务器、存储、网络、电源冷却以及高速光互连的全面拉动。

然而,传统可插拔光模块正遭遇“成长的烦恼”。李炜指出,多接口耦合带来更高光损耗,多器件稳定温控推高功耗;分立器件单价高、需独立或气密封装,人工密集;传统路线图还导致外形尺寸不断膨胀,难以塞进紧凑光模块。一句话,算力在飞奔,光互连不能拖后腿。

于是,光模块演进路线图清晰铺开:从可插拔,到NPO(近封装光学),再到CPO(共封装光学),最终走向OIO(光学I/O)。NPO把光模块移到主板近ASIC开关,将电距离从大于100毫米缩短至20—50毫米;CPO把光引擎与ASIC共封装在基板上,距离压到10毫米以内;OIO则实现裸片到裸片互连,进入微米级,彻底打破电气I/O带宽和功耗墙。李炜形容,这就像把原本在机房外“绕远路”的光信号,一步步请进芯片身边,让数据跑得更快、更省、更稳。

硅光子正是这条路径的底座。李炜表示,硅光可将波导、调制器、解复用器和光电探测器集成到单个PIC,减少分立元件和复杂光学对准;借助200mm/300mm晶圆制造和晶圆级测试,正建立可复现、可量产的代工模式。平台已支持400G、800G、1.6T、3.2T,并向CPO和光学I/O延伸。

市场数据印证了这股势头。Goldman Sachs 2026年9月报告显示,全球光模块出货量预计从2025年的4.49亿只增至2028年的7.29亿只;硅光渗透率从6%提升至18%;硅光模块出货量从2666万只跃升至1.279亿只,到2028年接近1.28亿只;800G及以上硅光渗透率超过60%。“这不仅是数字增长,更是材料平台的确定性机会。”李炜说道。

“全谱系”平台,为硅光未来筑基

“SOI是理想的光子衬底。”李炜把复杂物理讲得通俗易懂,顶层硅折射率3.47,像核心;埋氧层折射率1.44,像包层;全内反射是光子传输的核心机制。SOI兼具晶圆级集成、CMOS代工兼容、低波导损耗和高折射率对比(n=2)等优势,能利用200mm和300mm CMOS线实现大规模量产和低成本。

NSIG在这条路上已走了25年。从2001年成立中国大陆首家200mm SOI晶圆制造商—新傲,到2026年实现300mm SOI晶圆量产。李炜介绍,NSIG已形成覆盖RF、Power、Logic、Photonics、MEMS的300mm SOI产品组合:RF-SOI高线性、低插入损耗;HV-SOI高可靠、面向高性能计算;FD-SOI超低功耗;Photonics-SOI硅光集成平台;MEMS可控结构顶层硅。从超低功耗逻辑到高性能光学和功率电子,NSIG提供全谱系衬底方案。

“硅光子不是单点突破,而是材料、设计、代工、封装、设备与运营商的协同长跑。NSIG愿做那束‘未来之光’的坚实底座,与产业链伙伴一起,把AI时代的每一束光,都变成可量产、可交付、可依赖的硅基力量。”李炜说道。

责编: 张轶群
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