据报道，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）自主研发的 SSA800 系列 28nm 浸没式 DUV 光刻机，近日完成首批批量交付，进入量产工艺验证阶段。
该机型 2025 年 7 月通过工信部专家组的验收，完成了全流程技术验证。2026 年 1 月，上海微电子在长三角半导体产业峰会上，首次官宣 SSA800 系列 实现全面量产，量产良率稳定在 90% 以上。2026 年 3 月，在 SEMICON China 2026 国际半导体展览会上，上海微电子首次公开展示了该机型。此次，SSA800 系列光刻机完成首批批量交付标志着国产 28nm 浸没式光刻机完成了从 “能用” 到 “好用、可量产” 的关键跨越。
据悉，SSA800 系列采用 193nm ArF 浸没式光刻技术，单次曝光原生支持 28nm 制程，可通过多重曝光工艺稳定实现 14nm 乃至更先进的工艺生产。设备套刻精度控制在 ±2.3~2.5nm，量产良率稳定在 90%~95% 区间，每小时可处理 150 片晶圆。在供应链自主可控上，SSA800 整机国产化率超 85%，三大核心子系统全部实现国产自研自产。
在量产规划方面，SSA800 系列二季度预计将完成 5-8 台设备交付，全年将实现稳定量产交付。业内预测，随着产能持续爬坡，SSA800 系列光刻机将快速覆盖国内绝大多数成熟制程晶圆厂的扩产需求，国内成熟制程光刻机的市场份额将快速向国产设备倾斜。
目前日常使用的汽车、家电、工业设备、通信终端等产品的核心芯片，均依赖成熟制程产能，SSA800 的批量交付将补齐国内成熟制程芯片制造的核心设备短板。更重要的是，可以带动光源、光学镜头、双工件台，精密运动控制、浸没系统、检测系统，以及零部件企业的技术迭代，打通了高端光刻机研发、制造、量产、商用的全流程体系，为后续更先进制程光刻机的研发，积累核心技术、产业链配套与量产经验。
