【IPO一线】上交所:龙图光罩将于12月15日科创板首发上会

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集微网消息 12月8日,据上交所披露公告称,深圳市龙图光罩股份有限公司(简称:龙图光罩)将于12月15日科创板首发上会。

龙图光罩主营业务为半导体掩模版的研发、生产和销售,是国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商。公司紧跟国内特色工艺半导体发展路线,不断进行技术攻关和产品迭代,半导体掩模版对应下游半导体产品的工艺节点从 1μm 逐步提升至 130nm1,产品广泛应用于功率半导体、MEMS 传感器、IC 封装、模拟 IC 等特色工艺半导体领域,终端应用涵盖新能源、光伏发电、汽车电子、工业控制、无线通信、物联网、消费电子等场景。

目前,龙图光罩已掌握 130nm 及以上节点半导体掩模版制作的关键技术,形成涵盖CAM、光刻、检测全流程的核心技术体系。在功率半导体掩模版领域,公司工艺节点已覆盖全球功率半导体主流制程的需求。

龙图光罩称,公司以特色工艺半导体市场为切入点,紧扣国内半导体厂商的发展需求,不断提升掩模版工艺技术水平和客制化服务能力,逐步进入国内多个大型特色工艺晶圆厂供应商名录,一定程度上推动了我国半导体掩模版产业的国产化。

根据龙图光罩招股书的披露信息,公司董事会成员包括:柯汉奇、叶小龙、张道谷、常军锋、袁振超;监事会成员包括:侯广杰、何祥、崔嘉豪;高级管理人员包括:叶小龙、王栋、范强、邓少华;核心技术人员包括柯汉奇、王栋、黄执祥、肖宝铎、何祥、白永智等。

但集微咨询专利分析师通过对龙图光罩的有效专利的发明人进行分析,发现谢超并不在龙图光罩认定的董监高和核心技术人员的名单中,但其贡献的专利数量较多,涉及光刻制程管控技术、曝光精细化控制技术、精准工艺匹配技术、显影刻蚀控制技术、高精度测量技术、缺陷修补与异物去除技术等,涉及光刻和检测的几乎所有技术分支。且构成龙图光罩主营业务的11件核心发明专利中,谢超参与了其中6件的技术研发,然而却并未被纳入公司核心技术人员的名单中。

与之形成对比的是,被龙图光罩认定为核心技术人员的白永智目前年仅26岁,在2020年10月才加入龙图光罩,截至2022年底仅贡献了1篇涉及缺陷修补与异物去除技术的发明专利,并且该专利也是与谢超等人合作研发,对于公司的专利贡献较小,收入在核心技术人员中也是最低。在软件著作权方面,根据招股书披露的信息,龙图光罩在2020年之后申请的软件著作权涉及的技术领域高度集中于CAM版图处理技术。而CAM部的经理是肖宝铎,白永智担任的是工艺研发主管,因此白永智与CAM版图处理技术少有交集,对于龙图光罩软件著作权的贡献大概率也十分有限。

因此,科创板审核机构有可能要求龙图光罩说明谢超在公司的职位、是否同董监高以及核心技术人员一样签署了保密协议和竞业限制协议、未将谢超纳入核心技术人员的原因、以及将白永智纳入核心技术人员的合理性。同时要求龙图光罩进一步披露相关人员在公司研发团队中起到的作用,对公司的知识产权成果,包括专利、软件著作权、商业秘密等的贡献程度等信息。

责编: 邓文标
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