ASML:预计出口限制不会再有重大更新,有助降低规划不确定性

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据海外社交平台爆料,在高盛上周举办的全球半导体年会(Global Semiconductor Conference)上,美光、ASML等公司分别回应了当前市场关心的热点问题。

ASML代表对话要点为:1、预计出口限制(即EUV)不会再有重大更新,这有助于降低规划的不确定性;2、今年DUV的需求继续超过供应量约20%;3、中国需求仍然强劲,同时大多数光刻机是被安装在洁净室并被操作(而不是仅仅被订购和储存起来)。

美光管理层则表示,中国最近的制裁对其总收入产生高个位数的影响,高于之前预计。技术方面,美光认为,与传统服务器相比,AI服务器可以嵌入8倍的DRAM和3倍的NAND。

责编: 武守哲
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