1.VIVO“可穿戴设备和可穿戴设备的控制方法”专利获授权;
2.奕斯伟材料“硅片固定装置和硅片刻蚀设备”专利获授权;
3.速腾聚创“光接收装置、接收处理芯片及数据处理方法”专利获授权
1.VIVO“可穿戴设备和可穿戴设备的控制方法”专利获授权
天眼查显示,维沃移动通信有限公司近日取得一项名为“可穿戴设备和可穿戴设备的控制方法”的专利,授权公告号为CN115998055B,授权公告日为2025年10月17日,申请日为2023年1月12日。

本申请公开了一种可穿戴设备和可穿戴设备的控制方法,其中,可穿戴设备,包括:设备主体;第一连接带,第一连接带的第一端连接于设备主体的第一侧;第二连接带,第二连接带的第一端连接于设备主体的第二侧;限位结构,限位结构包括电致形变件,电致形变件连接于第一连接带的第二端,电致形变件与设备主体电连接,电致形变件在接收到设备主体的控制信号的情况下,能够在展开状态和折叠状态之间切换;在电致形变件处于折叠状态时,电致形变件将第一连接带和第二连接带锁紧;在电致形变件处于展开状态时,电致形变件解除对第二连接带的运动限制,第二连接带能够脱离第一连接带。
2.奕斯伟材料“硅片固定装置和硅片刻蚀设备”专利获授权
天眼查显示,西安奕斯伟材料科技股份有限公司近日取得一项名为“硅片固定装置和硅片刻蚀设备”的专利,授权公告号为CN119673859B,授权公告日为2025年10月17日,申请日为2024年12月6日。

本发明提供了一种硅片固定装置和硅片刻蚀设备,涉及半导体技术领域,硅片固定装置,包括:下承载台和上抵压台,硅片设置于下承载台朝向上抵压台的一面上;上抵压台上设置有多个抵压盘,每一抵压盘形成为内部中空的圆柱状结构,不同的抵压盘的直径不同,每一抵压盘能够在竖直方向上上升或下降;控制器,用于获取硅片的尺寸和硅片上待刻蚀的边缘区域的目标尺寸,根据目标尺寸和硅片的尺寸,控制多个抵压盘中的第一抵压盘下降抵压硅片的第一表面,以使第一表面暴露出目标尺寸的边缘区域。本发明可以匹配不同尺寸的硅片和不同尺寸的待刻蚀的边缘区域,通过一个硅片固定装置,即可以满足不同尺寸的硅片和不同尺寸的边缘区域的刻蚀需求。
3.速腾聚创“光接收装置、接收处理芯片及数据处理方法”专利获授权
天眼查显示,深圳市速腾聚创科技有限公司近日取得一项名为“光接收装置、接收处理芯片及数据处理方法”的专利,授权公告号为CN120802221B,授权公告日为2026年1月6日,申请日为2025年9月11日。

本申请适用于探测技术领域,提供了光接收装置、接收处理芯片及数据处理方法,光接收装置包括像素阵列、信号处理电路以及信号输出接口,像素阵列包括若干接收像素单元,接收像素单元包括淬灭电路、反相单元、开关单元以及至少两种不同光子探测效率的光接收器件;其中,同一接收像素单元内的所有光接收器件共享接收像素单元内的淬灭电路和反相单元,并通过开关单元选通目标光接收器件;通过设置不同光子探测效率的光接收器件,并通过开关单元选通对应的光接收器件,增加光接收装置在弱光下或者远距离、低反射率物体的探测能力,减少在强光下、近距离、高反射率物体探测过程中出现饱和的情况,改善强环境光下的测距精度,有效提高装置的动态范围。